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文章: 463
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......................不好意思 我本來就不是來討論漏電流的 僅僅是根據前面的一個網友的發言對前面celtt提出一個疑問而已。
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路在何方? |
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我的意思是說 如果有先做過功課的話 就比較不會犯提出"漏電流是因為電晶體距離過近"這樣的錯誤假設 還有如之前的pipeline過長導致打入下一級資料錯誤率上升 BT核心有18級管線 諸如此類的錯誤比較不會發生 或許你也有做過功課..只是可能得到的資料錯誤或是理解不完全 anyway..感覺上您對硬體很有興趣.. 可是一些基本的產品資訊沒弄清楚 還有一些硬體的基本觀念也有很大的偏差 so..我想可能這些根本的東西查清楚了再回文會比較好 |
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文章: 463
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謝謝!改進中。。。。。
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路在何方? |
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不知道現在是否可以提個問題 你們認爲是什麽原因造成了intel的功耗如此之大?
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路在何方? |
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引用:
intel功耗不大吧 是基於prescott核心(包括5xx,6xx,8xx)的功耗大而已 你這問題不就回到原點了.. 前面討論了一百多篇也不見結果吧 說老實話 只有intel知道 因為沒有證據可解釋是漏電流..我們也不是intel晶圓廠工程師 core的設計問題也只有intel自己的設計人員才知道 所以..只要知道目前基於prescott核心的東西就是很熱就對了 |
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還想問一個問題 不知道你對靜態功耗是否了解 如果知道的話prescott核心的靜態功耗為多少呢?
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路在何方? |
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靜態功耗用的怪怪的 通常是說idle power http://www.anandtech.com/cpuchipset...aspx?i=2353&p=4 實測結果 不過有用上EIST技術 |
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呵呵 不好意思 大陸這邊就是這麽稱呼的!
有一點需要説明 靜態功耗就是由形形色色的漏電流組成的。隨著工藝的進步靜態功耗(漏電流)在功耗中佔的比例是呈指數級增長的 翻了下資料 在0.25微米中靜態功耗佔縂功率的1%不到 在0.13微米當中佔3%-5% 而到了0.09微米 則佔了25%(這個數據不確定) 靜態功耗可見一斑! 其實Intel的長處在於動態功耗(英文怎麽表示我不清楚)使用的技術主要是low-k低介電常數絕緣技術 以及核心電壓控制技術 AMD的長處是在靜態功耗 也就是idle power 使用的主要是soi技術 也就是絕緣夕技術 這就是爲什麽在intel進入0.09nm后功耗大增的原因所在 因爲隨著主頻的提高和工藝的降低使得靜態功耗的影響加大,而intel本身就不擅長對靜態功耗的控制(沒有領先的靜態功耗控制技術)使得功耗大增。intel的對手AMD則擁有較高的核心電壓和較低的主頻並以此來控制靜態功耗,達到了降低功耗的目的,這就是在評測當中看到的AMD90nm的產品的功耗並沒有高出130nm很多 在某些方面AMD也要得益于他的SOI技術(絕緣夕).
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路在何方? |
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引用:
哇咧..又來了 prescott熱是指idle熱嗎??別搞錯了 prescott idle時有EIST運作 對比之下哪有熱到哪裡去 當然k8也有CnQ 請仔細看圖 idle之下k8只比prescott省電一點點 full load之下k8的功耗遠低於Prescott 跟你上述的論點完全相反 簡單的說..你上面這篇又是完全錯誤的解釋..我也不知道如何幫你更正了 還有low-k為什麼可以降低漏電流?? 麻煩不要把所有的製程技術都跟漏電流扯上關係@@ 還有你圖真的完全看不懂耶 此文章於 2005-05-07 02:02 PM 被 alience 編輯. |
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presscott熱不是指idle熱 presscott熱是相對于AMD而言的 因爲AMD在進入90nm的后功耗比130nm並沒有多少增加 而presscott在進入90nm后功耗大增 這也是大家爭論的焦點!
對於爲何會出現這種情況 上面已經作了分析:是由於兩家公司在對靜態功耗的控制方面的能力所決定的!靜態功耗其實就是由形形色色的漏電流構成的 其中包括柵極漏電流 襯底漏電流和亞閥值漏電流 這些漏電流都會隨著電晶體的體積的變小而增加 當製作工藝從0.13提升到0.09的時候自然會引起漏電流的增加 並且是呈指數增加 上面有數據 在0.25的時候是不到1% 到了0.13的時候是3%-5% 而到了0.09恐怕已經到了25% 在0.13和0.09之間靜態功耗佔總功耗的比例上升了20% (intel方面) presscott出現功耗大增也就不足爲怪了。 對於low-k 技術 在intel技術白皮書當中的介紹是“減少銅互連的導綫之間的電容”類似于絕緣夕。
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路在何方? |
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