|
||
|
Senior Member
 
加入日期: Dec 2001 您的住址: 魯西伐
文章: 1,103
|
這樣3D立體投影技術就有開發的價值了..
__________________
~我要去伊斯坎達爾星~ |
|||||||
2023-03-29, 08:14 PM
#41
|
|
|
New Member
加入日期: Jan 2008 您的住址: 頂太瘋
文章: 9
|
__________________
Fatboy Slim - Right Here, Right Now |
||
|
2023-03-29, 08:34 PM
#42
|
|
|
Major Member
加入日期: Feb 2005
文章: 204
|
|
|
2023-03-30, 12:34 PM
#43
|
|
|
*停權中*
加入日期: Feb 2015
文章: 1,456
|
連台積電的曝光機台都要上AI了
真是嚇死人 以後半導體軟體與硬體修正的學習曲線 時間與速度 不知道會縮短多少倍 沒有搭配AI的先進製程等生產線 應該會慢慢被淘汰 |
|
2023-03-30, 01:51 PM
#44
|
|
|
Major Member
加入日期: Feb 2005
文章: 204
|
引用:
以後1450與網軍應該也會被AI取代  |
|
|
2023-03-30, 01:53 PM
#45
|
|
|
*停權中*
加入日期: Jan 2017
文章: 46
|
引用:
之前去歐洲某半導體大型會議，就聽到它們某資深處長keynote演講 裡面就有提到它們已經用ai在分析晶片內的缺陷良率如何改善...我印象是約7nm的世代 所以你看多久前他們就這樣在拚良率了。 講的那位很有名，我就不說是脽了， 但我就是聽過那次演講，更覺得根本沒對手可以是神山的對手 只有支那白癡還在用手雕刻。  |
|
|
2023-03-30, 01:56 PM
#46
|
|
|
*停權中*
加入日期: Feb 2015
文章: 1,456
|
看來過幾年科技業四大領導廠商
必定左右2奈米的生產 難怪台積電要與NV深化合作 |
|
2023-03-30, 02:10 PM
#47
|
|
|
*停權中*
加入日期: Sep 2010 您的住址: 山與海之間...
文章: 58
|
這樣搞下去最先應用的應該是口國的直播美顏開到人神共憤吧
|
|
2023-03-30, 04:13 PM
#48
|
|
|
Golden Member
加入日期: Oct 2017 您的住址: 象山公園
文章: 2,861
|
引用:
導進DLXX??
__________________
垃圾桶名單: ankk chumowu cp03 jeffk LDSKING LDSKING II leeking leeko MyChris River Spinach smoguli Whole Truth wpc0406 YorkHapy 冬之炎陽 冰的啦魔王大人 沒問題 爆走企鵝 tvt hill45678 rcack 卜派 polor manoerina afeaanpv SUNGF samwu995 cd1971 垃圾敢在任何平臺罵習禁評？ |
|
|
2023-03-30, 04:54 PM
#49
|
|
|
Power Member
加入日期: Jun 2004
文章: 693
|
ASML/台積電2nm確定用！NVIDIA帶來芯片光刻技術大飛躍：提速40倍 | 快科技
..（3月21日），NVIDIA春季GTC技術大會召開。作為NVIDIA炫技的主要舞台，新東西可謂眼花繚亂。 其中值得關注的一項是，NVIDIA宣布推出cuLitho軟件加速庫，可以將計算光刻的用時提速40倍。 ASML/台積電2nm確定用！NVIDIA帶來芯片光刻技術大飛躍：提速40倍 所謂計算光刻就是為芯片生產制作光掩模的技術，掩膜是一種平面透明或半透明的光學元件， 上面有芯片加工所需的圖案，按照是否需要曝光將圖案轉移到光刻膠層上。 光刻加工過程開始後，通過控制光刻機的曝光和開關操作，可以將光束根據掩膜上的圖案進行分割和定位， 使得光束只照射到需要曝光的區域，從而將芯片上的圖案轉移到光刻膠層上，實施芯片光刻。 因為每種芯片都要經歷多次曝光，所以光刻中使用的掩膜數量不盡相同。 NVIDIA H100（台積電4N工藝，800億晶體管）需要89張掩膜，Intel的14nm CPU需要50多張掩膜。 此前“精雕細琢”的計算光刻依賴CPU服務器集群，現在NVIDIA表示，500套DGX H100（包含4000顆Hopper GPU） 可完成與4萬顆CPU運算服務器相同的工作量，但速度快40倍，功耗低9倍。 這意味著，GPU加速後，生產光掩模的計算光刻工作用時可以從幾周減少到八小時。 黃仁勳透露，NVIDIA已經和ASML（荷蘭阿斯麥）、台積電以及新思科技簽署技術合作， 新思甚至已經將該技術集成到其EDA工具中，將服務2nm甚至更高精度的制程。 NVIDIA認為，新技術可以實現更高的芯片密度和產量，按照更好的設計規則以及借助人工智能驅動光刻行業前進。 按照NVIDIA預估，未來幾年高NA EUV光刻機應用後，掩膜制作的計算數據量將提升10倍以上， 目前cuLitho軟件加速庫已經支持高NA EUV光刻可能用到的曲線掩膜、亞原子光致抗蝕劑掩膜等制造。 |
|
2023-03-30, 05:00 PM
#50
|
|
