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多個消息來源確認，代號「開普勒」(Kepler)的NVIDIA下一代GPU晶片已經成功流片，台積電28nm工藝再次立功。

首次採用新工藝且變化巨大的高階GPU晶片往往會在初期面臨很多困難，不過據說NVIDIA的開普勒情況良好，沒有遇到任何重大問題。當然了，需要做的工作肯定還是非常多的，比如說控制漏電率、完善性能、修復bug等等。

樂觀的預計是基於開普勒的下代顯卡能趕在今年第四季發佈並上市，不過多個消息來源都認為這種可能性非常低，因為台積電還需要更多時間讓28nm工藝進一步成熟起來，開普勒最早也要明年初問世。目前的GPU都已經在40nm工藝上碰到了「性能牆」，基本失去了繼續提升的空間，新工藝勢在必行。

相比之下，AMD方面倒是屢次強調說同樣使用台積電28nm工藝的下代南方群島會在今年底如期推出。儘管如此，NVIDIA這一次的步伐也是相當快的，畢竟以往在新工藝過渡方面都要落後對手一個時代。