引用:
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作者physx
五年的時間科技業很多東西都會變的，當初說22nm就是極限，現在intel還不是規劃到11nm去了  |
22nm依然還是極限啊
你得先搞清楚22nm為什麼是極限
因為現行193nm DUV曝光機只能做到40nm
+水改變折射率也只能到22nm (註: 以上都是指能達到量產良率的線寬)
再下去要換成EUV曝光機或者用電子束曝光
兩種都還有很大問題, EUV建造成本太高, 雷射耗能太大
而電子束曝光超級慢
如果以上問題沒辦法解決, 摩爾定律22nm就會終結了
原因不在於良率, 而是成本