引用:
作者alience
就我的認知上及和一些交大電子所的朋友討論結果
SOI是偏向針對露電流的解決方案
DSL或是strain-silicon的技術卻是偏向時脈最佳化的解決方案
當這些東西用在一起時
效應異常複雜..我也非專精這個方向..所以只是大致上了解一些
但是我從來不知道DSL或是strain-silicon竟可以抑制漏電流@@
希望有專精的人提出更好的詮釋
為什麼我跟Jasonyang大會比較不偏向漏電之說
因為prescott是個特例..非常反常的特例
且之前intel有承認其prescott有"設計"上的問題
而非90nm的問題
其實intel的90nm製程控制漏電流做的非常好
有機會去翻翻ACE之前的一篇對IBM,intel的90nm評論便可知
只是自從對岸如HKEPC的一些兩光消息出來後
大家就對90nm的漏電流有很大的恐慌..甚至一度懷疑k8也會栽在這上面
所以我前面才會說還在整天把漏電流當做90nm的原罪的
很可能是被intel或是對岸一些報導所誤導
基本上漏...
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印象中DSL跟I老大的的應變硅技術類似。可以在相同功耗下,提升電晶體的反應速度...
那在同個速度加進DSL會有什麼是發生呢
你不是也說"導致大量漏電流的卻是IC本身設計問題所導致"嗎...
所以問題點就是在"漏電流"啊...
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其實兩邊講的都沒錯啊...
製程縮小會導致漏電流的問題越趨嚴重...
prescott高熱是因為漏電流的問題...
翻翻前面...好像是我手賤去打90nm
