自認是晶片設計的考量....
NV3x有HW T&L，和疑似不太共用元件的VS 2.0，
現在NV4x去掉HW T&L，用VS3.0進行模擬，我覺得是想省下電晶體數。
不過這也不能算是"非正規方式"的達成啦，
因為還是有接近其硬體架構的Extension。

programmablility提升，無可避免地同一元件的速度一定會下降；
但是如果演算法上有配套措施，整個遊戲的執行效能有提升的話，
那麼GPU一堆元件整個搭配下來，效率也有可能回升。
所以Doom3的Z-Rendering pass這種東西去搭配UltraShadow之類的技術就蠻重要的....

總之，現在看R420和NV40，可以發現：
電晶體數量並沒有增加很多(30~50%)，
但是管線規模大多提升了。(2~4x)
我覺得意指過去有很多摸索中的設計，帶來了一些不必要的損耗；
不過有這些嘗試，才有現在的精實就是了。

嗯，精實，真好用的兩個字。